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Santec推出OSX-100超低損耗保偏光開關(guān)
近日，Santec宣布推出OSX-100保偏光開關(guān)。該公司表示，這款光開關(guān)將適用于實(shí)驗(yàn)室和研發(fā)需求、自動化設(shè)備測試和大批量生產(chǎn)測試。
OSX-100的波長范圍為1250nm至1670nm，采用Panda保偏光纖。它提供±0.005dB的重復(fù)性，PER大于23dB，插入損耗小于1.0dB。標(biāo)準(zhǔn)配置使用SC或FC隔板，可多達(dá)24個通道。公司還可以根據(jù)要求提供更高的通道數(shù)、定制的光纖類型和波長范圍。
Santec表示，OSX-100很容易通過USB或以太網(wǎng)與SCPI命令合并到任何測試設(shè)置中。可選的前面板觸摸屏也可用于本地控制。
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ADI亞德諾AD7616BSTZ模數(shù)轉(zhuǎn)換芯片ADC的中文參數(shù)、功能特點(diǎn)以及應(yīng)用領(lǐng)域
您好！很高興為您提供電子元器件采購支持。關(guān)于ADI亞德諾AD7616BSTZ模數(shù)轉(zhuǎn)換芯片ADC的中文參數(shù)、功能特點(diǎn)以及應(yīng)用領(lǐng)域，以下是我為您整理的信息：中文參數(shù)?品牌?：ADI（亞德諾）?產(chǎn)品分類?：模數(shù)轉(zhuǎn)換器（ADC）?封裝?：80引腳LQFP?位數(shù)?：16位?采樣率?：1MSPS（每秒百萬次采樣）?輸入數(shù)?：16?輸入類型?：單端?數(shù)據(jù)接口?：DSP、MICROWIRE、并聯(lián)、QSPI、串行、SPI?供電電壓?：模擬電源：4.75V~5.25V數(shù)字電源：2.3V~3.6V（VDRIVE電源電壓）?工作溫度?：-40°C~125°C?安裝類型?：表面貼裝型功能特點(diǎn)?16通道雙路同步采樣?：支持16個通道的雙同時采樣，適用于多通道數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)。?真雙極性輸入?：可容納±10V、±5V和±2.5V的真雙極輸入信號，提供廣泛的輸入范圍。?高信噪比（SNR）?：在1MSPS采樣率下，SNR達(dá)到90.5dB；在500kSPS采樣率且2倍過采樣時，SNR可達(dá)92dB。?模擬輸入鉗位保護(hù)?：輸入鉗位保護(hù)電路可承受高達(dá)±21V的電壓，保護(hù)芯片免受過高電壓的損害。?高輸入阻抗?：具有1M?模擬輸入阻抗，與采樣頻率無關(guān)，減少了對驅(qū)動器運(yùn)算放大器和外部雙極電源的需求。?靈活的數(shù)字濾波器?：提供過采樣功能，通過數(shù)字濾波器實(shí)現(xiàn)更高的SNR性能。?多種接口兼容?：兼容SPI/QSPI/MICROWIRE/DSP等多種接口，方便與各種微控制器或數(shù)字信號處理器連接。應(yīng)用領(lǐng)域?工業(yè)自動化?：用于工業(yè)自動化領(lǐng)域的數(shù)據(jù)采集和控制系統(tǒng)，如傳感器信號采集、溫度測量、壓力監(jiān)測等。?醫(yī)療設(shè)備?：適用于醫(yī)療設(shè)備領(lǐng)域，如心電圖（ECG）采集、血壓監(jiān)測、呼吸監(jiān)測等，提供高精度和低功耗的數(shù)據(jù)采集性能。?測量儀器?：適用于各類測量儀器，如多通道示波器、信號分析儀、頻譜儀等，實(shí)現(xiàn)高精度的信號采集和分析。?通信設(shè)備?：可用于通信設(shè)備領(lǐng)域，如信號處理、傳輸控制、接口連接等，滿足高速數(shù)據(jù)傳輸和處理需求。?汽車電子?：適用于汽車電子領(lǐng)域，如車載儀表、車載音頻處理等，提供高精度和低功耗的解決方案。希望以上信息能夠幫助您更好地了解AD7616BSTZ模數(shù)轉(zhuǎn)換芯片ADC。如果您還有其他問題或需要進(jìn)一步的幫助，請隨時告訴我。如果貴司有芯片采購需求、BOM表配單、芯片樣品測試請聯(lián)系客服：4008-622-911或13823669944。
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“光刻膠全干法轉(zhuǎn)印”工藝賦能柔性電子器件可靠制造
近日，湖南大學(xué)段輝高教授團(tuán)隊(duì)通過開發(fā)基于“光刻膠全干法轉(zhuǎn)印”技術(shù)的新型光刻工藝，用于柔性及不規(guī)則（曲面、懸空）襯底上柔性電子器件的原位和高保形制造，為高精度、高可靠性和高穩(wěn)定性柔性電子器件的制造提供新思路。相關(guān)論文以題為Dry-Transferrable Photoresist Enabled Reliable Conformal Patterning for Ultrathin Flexible Electronics發(fā)表在國際頂級期刊《Advanced Materials》雜志上。硅基光刻技術(shù)具有高分辨率、高精度、易于集成和高通量等優(yōu)點(diǎn)，已成為制造微電子器件的主要工藝之一。然而，硅基光刻技術(shù)在柔性電子器件制造中的應(yīng)用受到材料兼容性等問題的限制，因此需要新的制造工藝來滿足柔性電子器件的制造需求。該團(tuán)隊(duì)開發(fā)出一種 “光刻膠全干法轉(zhuǎn)印”新型光刻工藝，該工藝的關(guān)鍵在于開發(fā)了一種環(huán)保型（水基）可轉(zhuǎn)印光刻膠材料，光刻膠具有對紫外光（UV）和電子束（EBL）輻照的雙重敏感性，可用于制造多尺度圖案。通過精準(zhǔn)調(diào)控光刻膠材料表面能及轉(zhuǎn)移參數(shù)，從而實(shí)現(xiàn)高分辨、高密度、跨尺度光刻膠結(jié)構(gòu)在硅基襯底上的脫附，并將其無損轉(zhuǎn)移到柔性聚合物或不規(guī)則襯底上。利用光刻膠結(jié)構(gòu)作為掩膜圖案，結(jié)合金屬沉積工藝和Lift-off工藝，可以實(shí)現(xiàn)柔性、不規(guī)則襯底上電子元器件的原位和保形制造。這種工藝具有高效、環(huán)保、低成本等特點(diǎn)，有望滿足現(xiàn)代柔性電子器件對高精度、高可靠性和高穩(wěn)定性的要求。環(huán)保型可轉(zhuǎn)印光刻膠材料的開發(fā)及工藝流程高分辨、高密度、跨尺度光刻膠結(jié)構(gòu)干法轉(zhuǎn)印及可延展電子圖案制造展示該工作得到了國家重點(diǎn)研發(fā)計(jì)劃、國家自然科學(xué)基金創(chuàng)新群體項(xiàng)目以及研究院微納制造與檢測平臺的支持。論文通訊作者為段輝高教授，第一作者為陳雷博士。
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